Organic ice resist for 2D and 3D patterns by electron beam and extreme ultra violet lithography

Brevetto
Data di Pubblicazione:
2016
Citazione:
Organic ice resist for 2D and 3D patterns by electron beam and extreme ultra violet lithography / Han, A; Tiddi, W; Beleggia, M.
Tipologia CRIS:
Brevetto
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.unimore.it/handle/11380/1255383