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  1. Pubblicazioni

Reverse photolitographic technique for thicl-film circuits

Articolo
Data di Pubblicazione:
1985
Citazione:
Reverse photolitographic technique for thicl-film circuits / A., Singh; M., Prudenziati; Morten, Bruno. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 25:(1985), pp. 61-83. [10.1016/0026-2714(85)90442-1]
Abstract:
The paper deals with reverse photolitographic technique, applied for the first time for the processing of thick-film components on alumina substrates. The SEm phographs of the delineated patterns have revealed excellent edge line definition which is always saw-tooth shaped in the conventional process. various VLSI applicationpotentials have also been pointed out.
Tipologia CRIS:
Articolo su rivista
Keywords:
photolithography; thick-film circuits
Elenco autori:
A., Singh; M., Prudenziati; Morten, Bruno
Link alla scheda completa:
https://iris.unimore.it/handle/11380/744123
Pubblicato in:
MICROELECTRONICS RELIABILITY
Journal
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